去除率是一个多领域应用的概念，具体定义和应用场景根据不同的领域有所不同：
设备维护领域：
定义：设备去除率是指在某个时间段内，移除或取下设备的比率。它是衡量设备维护和实际使用情况的重要指标。
计算方法：设备去除率 =(在特定时间段内移除或取下的设备数量 / 该时间段内设备的总数) × 。
影响因素：包括设备质量、设备使用率、维护计划的有效性以及环境因素。
机械加工领域：
定义：金属材料去除率是指在机械加工过程中，原始尺寸与Zui终尺寸之差占原始尺寸的百分比，用于评估加工过程中的效率和质量。
影响因素：包括切削速度、切削深度、切削角度和切削液。
空气净化领域：
定义：病毒去除率是指去除空气中的病毒的比率，而灭活率是指杀灭病毒的比例。病毒可以被拦截导致检测空气中的病毒大量被去除了，但这些病毒还活着，可能会造成二次污染；灭活则说明这些病毒被杀死了，不会造成二次污染。
，去除率的概念和应用范围广泛，不同领域有其特定的定义和计算方法。
关于去除率，北京清析技术研究院可提供去除率检测，去除率检测报告等检测项目。同时，北京清析技术研究院可对cod去除率，氨氮去除率，活性炭去除率，甲醛去除率，VOC去除率，臭气去除率，余氯去除率等进行检测。
硅片抛光去除率检测方法
1、表面形貌分析
表面形貌分析是测量硅片抛光去除率常用的方法之一。该方法使用扫描电子显微镜(SEM)或原子力显微镜(AFM)等设备，将硅片表面的形貌进行观察和分析。通过比较抛光前后的表面形貌，就可以计算出抛光去除率。
2、X射线光电子能谱
X射线光电子能谱是一种分析被测物表面成分的方法。在该方法中，X射线照射样品，样品表面的元素会被电离，电子会被弹射出来并被收集进一台能谱仪进行检测。通过测量能谱的峰位和峰面积，可以确定元素的类型和含量。通过比较抛光前后硅片表面的元素含量，就可以计算出抛光去除率。
3、荧光X射线光谱
荧光X射线光谱是一种基于X射线荧光原理的表面分析技术。在该方法中，样品被照射一定能量的X射线，样品中的元素会发生荧光，荧光信号会被收集并进行分析。通过比较抛光前后硅片表面的元素含量，就可以计算出抛光去除率。
检测标准
1、NF EN 17679:2022 塑料 塑料薄膜切口处梯形梯形的抵抗力和去除率的测定
2、KS I ISO 11733:2008水质.水介质中有机化合物的生物降解和去除率的测定.活性污泥模拟试验
3、ANSI/ASHRAE 198P-2013水分去除量和水分去除效率用独立新风系统评价试验方法
