产品介绍
锗（Ge）单质是一种灰白色类金属，有光泽，质硬；属于碳族，化学性质与同族的锡与硅相近，不溶于水、盐酸、稀苛性碱溶液，溶于王水、浓硝酸或硫酸；具有两性，故溶于熔融的碱、过氧化碱、碱金属硝酸盐或碳酸盐，在空气中较稳定，粉末状的锗呈暗蓝色，结晶状为银白色脆金属。是重要的半导体材料。
产品参数
中文名 锗 元素符号 Ge
分子量 72.61 熔 点 938.25℃
沸 点 2830℃ 密 度5.35g/cm3
陶瓷靶材采用常压烧结,气氛烧结,热等静压烧结等工艺,严格控制原料的纯度,成分及成型坯料额设计尺寸,坯料经过精密机械加工成靶材,可根据客户要求定制加工特殊掺杂比例靶材。
产品优势 靶材纯度高,致密度高,成分均匀
产品规格 图片靶材，矩形靶材，圆柱靶材，台阶片靶材，管型靶材，根据客户的图纸定制
产品用途 磁控溅射镀膜材料等
产品附件 正式报价单/购销合同/装箱单/材质分析检测单
适用仪器 各类型号磁控溅射设备
服务项目 靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款，质量保证，售后无忧
加工流程 熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库
厂家优势
收货后7日内可协商退换货
靶材种类齐全
支持合金靶材定制，请提供靶材产品的元素、比例（重量比或原子比）、规格，我们会尽快为您报价！！
本网站价格只做参考，期待您的垂询！
服务项目：靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款，质量保证，售后无忧！
产品附件：发货时产品附带装箱单/质检单/
适用仪器：多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备
质量控制：严格控制生产工艺，采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段，分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度；可提供质检报告。
加工流程：熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库
高纯溅射靶材（规格按要求定做）
高纯金属溅射靶材
铝靶Al、铬靶Cr、铜靶Cu、铁靶Fe、锌靶Zn、锡靶Sn、镁靶Mg、钴靶Co、镍靶Ni、钛靶Ti、金靶Au、银靶Ag、铂靶Pt、铼靶Re、钌靶Ru、钯靶Pd、铑靶Rh、铱靶Ir、铟靶In、钒靶V、镉靶Cd、钨靶W、钼靶Mo、钽靶Ta、铌靶Nb、锆靶Zr、铪靶Hf、锗靶Ge、硅靶Si、锰靶Mn、铋靶Bi、硒靶Se、硼靶B、钙靶Ca
合金溅射靶材 （规格按要求定做）
钛铝Ti-Al、铝硅Al-Si、铝铜Al-Cu、铝钛Al-Ti、银铜Ag-Cu、铝镁Al-Mg、钴铁硼Co-Fe-B、铜铟镓Cu-In-Ga、铁锰Fe-Mn、铟锡In-Sn、钴铁Co-Fe、镍钴Ni-Co、镍铁Ni-Fe、镍铬Ni-Cr、镍锆Ni-Zr、镍铝Ni-Al、镍铜Ni-Cu、镍钒Ni-V、钨钛W-Ti、锌铝Zn-Al、铝钛硼Al-Ti-B、铝钪Al-Sc、钒铝铁V-Al-Fe、铜锡Cu-Sn、锆铝Zr-Al、钒铝V-Al、硼铁B-Fe
陶瓷靶材 （规格按要求定做）
ITO靶材、AZO靶材、IGZO靶材、氧化镁靶材MgO、氧化钇靶材Y2O3、氧化铁靶材Fe2O3、氧化镍靶材Ni2O3、氧化铬靶材Cr2O3、氧化锌靶材ZnO、硫化锌靶材ZnS、硫化镉靶材CdS、硫化钼靶材MoS2、二氧化硅靶材SiO2、一氧化硅靶材SiO、二氧化锆靶材ZrO2、五氧化二铌靶材Nb2O5、二氧化钛靶材TiO2、二氧化铪靶材HfO2、二硼化钛靶材TiB2、二硼化锆靶材ZrB2、三氧化钨靶材WO3、三氧化二铝靶材Al2O3、五氧化二钽靶材Ta2O5、氟化镁靶材MgF2、硒化锌靶材ZnSe、氮化铝靶材AlN、氮化硅靶材Si3N4、氮化硼靶材BN、氮化钛靶材TiN、碳化硅靶材SiC、铌酸锂靶材LiNbO3、钛酸镨靶材PrTiO3、钛酸钡靶材BaTiO3、钛酸镧靶材LaTiO3、钛酸锶靶材SrTiO3等高密度陶瓷溅射靶材.
稀土靶材
钆靶Gd、钐靶Sm、碲靶Te、镝靶Dy、铈靶Ce、钇靶Y、镧靶La、锑靶Sb、镱靶Yb、铒靶Er、铽靶Tb、钬靶Ho、铥靶Tm、钕靶Nd、镨靶Pr、镥靶Lu
稀土陶瓷靶材
氧化镧靶La2O3、氧化铈靶CeO2、氧化镨靶Pr6O11、氧化钕Nd2O3、氧化钐靶Sm2O3、氧化钕靶Nd2O3、氧化铒Er2O3靶、氧化铥靶Tm2O3、氧化钬靶Ho2O3、氧化铕靶Eu2O3等稀土陶瓷靶材