WC靶材碳化钨靶材磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料

产品介绍

碳化钨，是一种由钨和碳组成的化合物。分子式为WC，分子量为195.85。碳化钨不溶于水、盐酸和硫酸，易溶于硝酸－氢氟酸的混合酸中。纯的碳化钨易碎，若掺入少量钛、钴等金属，就能减少脆性。用作钢材切割工具的碳化钨，常加入碳化钛、碳化钽或它们的混合物，以提高抗爆能力。碳化钨的化学性质稳定。碳化钨粉应用于硬质合金生产材料。

应用领域

碳化钨粉末

大量用作高速切削车刀、窑炉结构材料、喷气发动机部件、金属陶瓷材料、电阻发热元件等制得。 

用于制造切削工具、耐磨部件，铜、钴、铋等金属的熔炼坩埚，耐磨半导体薄膜。

产品参数

中文名 碳化钨           化学式 WC

分子量 195.85           熔点 2870℃

沸点 6000℃             密度 15.63g/cm³

产品规格   图片靶材，矩形靶材，圆柱靶材，台阶片靶材，管型靶材，根据客户的图纸定制

产品用途 磁控溅射镀膜材料等

产品附件 正式报价单/购销合同/装箱单/材质分析检测单/正规发 票

产品包装 真空包装/真空中性包装/特殊包装外加固包装

适用仪器 各类型号磁控溅射设备

厂家优势

   收货后7日内可协商退换货

   靶材种类齐全

1.氧化物:一氧化硅SiO,二氧化硅SiO2,二氧化钛TiO2,二氧化锆ZrO2,二氧化铪HfO2,一氧化钛TiO,五氧化三钛Ti3O5,五氧化二铌Nb2O5,五氧化二钽Ta2O5,氧化钇Y2O3等高纯氧化物镀膜材料。

2.氟化物：氟化钕NbF3,氟化钡BaF2,氟化铈CeF3,氟化镁MgF2,氟化镧LaF3,氟化钇YF3,氟化镱YbF3,氟化铒ErF3等高纯氟化物。

3.其它化合物：硫化锌ZnS,硒化锌ZnSe,氮化钛TiN,碳化硅SiC,钛酸镧LaTiO3,钛酸钡BaTiO3,钛酸锶SrTiO3,钛酸镨PrTiO3,硫化镉CdS等真空镀膜材料。

4.金属镀膜材料：高纯铝Al,高纯铜Cu,高纯钛Ti,高纯硅Si,高纯金Au,高纯银Ag,高纯铟In,高纯镁Mg,高纯锌Zn,高纯铂Pt,高纯锗Ge,高纯镍Ni,高纯金Au,金锗合金AuGe,金镍合金AuNi,镍铬合金NiCr,钛铝合金TiAl,铜铟镓合金CuInGa,铜铟镓硒合金CuInGaSe,锌铝合金ZnAl,铝硅合