公司产品可以应用于电子束蒸发,热蒸发,磁控溅射等设备中,用来制备太阳能电池,光电探测器,LED,激光器,场效应晶体管等各种器件电极及各种薄膜材料图形设计。我们已与北京大学,清华大学,中科院声学研究所,武汉大学,华中科技大学,中科院昆明植物研究所,上海航空航天大学,山东大学,同济大学,吉林大学,华南理工,中山大学,等国内众多的高校和科研院及高技术企业形成了合作关系,积累了丰富的设计和制备经验,具备诸多优势。
华诺激光的掩膜版制备工艺主要激光加工的方法,这种方法可以根据客户要求灵活设计各种图案,且制备出来的图案尺寸标准。我们的图案尺寸精度可以达到0.02mm以上,边缘锐利无毛刺,开孔直线度好,真圆度好。