硫化亚铜靶材Cu2S磁控溅射靶材

科研实验专用硫化亚铜靶材Cu2S磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料

产品介绍

      硫化亚铜（Cu2S）呈黑色或灰黑色，在自然界以辉铜矿（也称辉铁矿）形式存在；硬而脆，导电，有毒；对热稳定，不溶于水、丙酮、硫化铵、稀硫酸和稀盐酸；在硝酸和热浓硫酸中分解，跟硝酸反应生成硝酸铜、硫和一氧化氮；在隔绝空气下加热生成铜和硫化铜，在空气存在下生成氧化铜、硫酸铜和二氧化硫。用作制防污涂料、固体润滑剂、催化剂、太阳电池等。

产品参数

中文名 硫化亚铜          化学式 Cu2S

分子量159.158            密度5.6g/ml

熔点 1100℃              纯度99.9%

支持合金靶材定制，请提供靶材产品的元素、比例（重量比或原子比）、规格，我们会尽快为您报价！！ 

服务项目：靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款，质量保证，售后无忧！

产品附件：发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装

适用仪器：多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备 

质量控制：严格控制生产工艺，采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段，分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度；可提供质检报告。 

加工流程：熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库

陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差，连续长时间溅射易发生靶裂情况，绑定背靶后，可提高化合物靶材的导热性能，提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您，选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶！

      我公司采用高纯铟作为焊料，铟焊厚度约为0.2mm，高纯无氧铜作为背靶。

      注意：高纯铟的熔点约为156℃，靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化！绑定背靶不影响靶材的正常使用！

      建议：陶瓷脆性靶材、烧结靶材，高功率下溅射易碎，建议溅射功率不超过3W/cm2