三氟化氮金属杂质检测，三氟化氮检测机构

三氟化氮（NF₃）是一种无色、无味、强氧化性的气体，由氮元素与氟元素通过高温氟化反应合成，主要用作半导体制造中的等离子蚀刻气体及清洗剂，其纯度与杂质含量直接影响芯片良率与设备寿命。

一、三氟化氮检测范围

集成电路制造（12英寸/8英寸晶圆厂）、液晶面板蚀刻、光伏电池PECVD工艺、光纤预制棒沉积、实验室特种气体分析、电子元器件表面处理、航空航天材料加工等场景。

二、三氟化氮检测项目

纯度分析：主成分≥99.999%（GC-ECD法）、氧含量≤1ppm、氮含量≤5ppm
金属杂质：铁≤0.1ppb、铜≤0.05ppb、铝≤0.2ppb（ICP-MS法）
非金属杂质：四氟化碳≤2ppm、六氟化硫≤0.5ppm、二氧化碳≤1ppm（GC-TCD法）
颗粒物：粒径≥0.1μm颗粒数≤10个/cm³（激光散射法）
水分含量：露点≤-80℃（冷镜式露点仪法）
酸度：氟化氢≤0.1ppm、氯化氢≤0.05ppm（离子色谱法）

三、三氟化氮检测标准

GB/T 33147-2016《电子工业用气体 三氟化氮》
SEMI C28-1122《半导体级三氟化氮规范》
ASTM D7285-23《气体中痕量金属ICP-MS检测》
ISO 14687-3:2022《电子气体纯度分级》
JIS K0116:2021《工业气体杂质分析通则》

映山红智能检测机构配备氦离子化检测器（PDHID）及电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS），提供从ppb级痕量杂质到主成分的全项检测服务，10-15个工作日出具中英文双语报告，数据可溯源至NIST标准物质。