光掩模版MASK超薄304不锈钢 铜质合金材料掩模版，光学掩模版在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并准确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。掩膜版应用十分广泛，在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版。
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光掩模版也叫MASK，IC行业称Reticle，中文称呼还有光罩，铬板。
掩模版主要作为图形信息的载体，通过曝光过程，将图形转移到被曝光产品（硅片，导电玻璃，铜箔等）上，从而实现图形的转移。
常见的光掩模版有三种，铬版(chrome)、干版，菲林。
华诺激光定做掩膜版 mask 金属掩模板 不锈钢掩膜版，主要适合于高校、科研所、高科技公司的实验室使用，也适合于工厂批量生产，掩模板可以应用于电子束蒸发，热蒸发，磁控溅射等真空镀膜设备中，用来制备OTFT、OPV、OLED、钙钛矿太阳能电池，光电探测器，场效应晶体管等各种器件图形化薄膜和电极。由于都是定制的产品，具体价格需要发图纸确认后，才能正式报价。光刻掩膜版（又称光罩，英文为MaskReticle），简称掩膜版，是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构，再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上。不锈钢掩模板是以不锈钢材料为基板生产的掩模板，此掩模板的特是平整度好、精度高、金属硬度高可以反复使用，适用于蒸镀线路、电极、芯片层等。受高校研发部门、科研所喜爱。