光学掩模板在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并**定位,以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。掩膜版应用十分广泛,在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版,如IC(IntegratedCircuit,集成电路)、FPD(Flat Panel Display,平板显示器)、PCB(Printed Circuit Boards,印刷电路板)、MEMS(Micro Electro MechanicalSystems,微机电系统)等。
掩膜版应用十分广泛,在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版,如IC(IntegratedCircuit,集成电路)、FPD(Flat PanelDisplay,平板显示器)、PCB(Printed CircuitBoards,印刷电路板)、MEMS(Micro ElectroMechanical Systems,微机电系统)等。