20.有没有光刻胶PC3-6000的资料吗?
A PC3-6000并不是光刻胶,它是用在chip
on glass 上的胶粘剂。
21.是否有Wax替代品?
A PC3-6000可替代Wax做晶片和玻璃的固定,比较容易去除掉。
22.贵公司是否有粘接硅衬底和衬底的材料?
A 有,IC1-200就是
23.请问是否有不用HMDS步骤的正性光刻胶?
A 美国Futurrex 整个系列的光刻胶都不需要HMDS步骤,都可以简化。
24.一般电话咨询光刻胶,我们应该向客户咨询哪些资料?
A 1 需要知道要涂在什么材质上,2
还有要知道需要做的膜厚,3
还要知道光刻胶的分辨率
4还有需要正胶还是负胶,5
需要国产还是进口的
27.想找一款膜厚在120um,的光刻胶,有什么光刻胶可以做到啊!
A 以前有使用过美国有款光刻胶可以达到Futurrex
NR21-20000P ,。
28.有没有了解一款美国Futurrex
NR9-250P的光刻胶,请教下?
A 这是一款负性光刻胶,湿法蚀刻使用的,附着力很好,耐100度的温度,国内也有可以代理的公司,Futurre
光刻胶是4大的电子化学品制造商,在光刻胶的领域有着不错的声誉,在太阳能光伏,负性光刻胶哪里有,和LED半导体行业都有不错的市场占有率。
29.想找款膜厚的产品,进行蚀刻,有什么好推荐?
A 厚膜应用(thick
film applicati),主要是指高纵横比(Aspect
ratios),负性光刻胶厂家,高分辨率,高反差,有几款产品向你推荐一下《NR4-8000P,四川负性光刻胶,NR2-20000P,NR5-8000,这些产品都需要用到边胶清洗液》
的光刻
NR77-25000P负性光刻胶
光刻工艺主要性一
光刻胶不仅具有纯度要求高、工艺复杂等特征,还需要相应光刻机与之配对调试。一般情况下,一个芯片在制造过程中需要进行10~50道光刻过程,由于基板不同、分辨率要求不同、蚀刻方式不同等,不同的光刻过程对光刻胶的具体要求也不一样,即使类似的光刻过程,不同的厂商也会有不同的要求。
针对不同应用需求,光刻胶的品种非常多,这些差异主要通过调整光刻胶的配方来实现。因此,负性光刻胶供应商,通过调整光刻胶的配方,满足差异化的应用需求,是光刻胶制造商核心的技术。
此外,由于光刻加工分辨率直接关系到芯片特征尺寸大小,而光刻胶的性能关系到光刻分辨率的大小。限制光刻分辨率的是光的干涉和衍射效应。光刻分辨率与曝光波长、数值孔径和工艺系数相关。
负性光刻胶厂家-四川负性光刻胶-北京赛米莱德公司由 北京赛米莱德贸易有限公司提供。北京赛米莱德贸易有限公司(www.semild.com)为客户提供“光刻胶”等业务,公司拥有“赛米莱德”等品牌,专注于工业制品等行业。欢迎来电垂询,联系人:况经理。