扫描电子显微镜SEM分析原理：用电子技术检测高能电子束与样品作用时产生二次电子、背散射电子、吸收电子、X射线等并放大成象。谱图的表示方法：背散射象、二次电子象、吸收电流象、元素的线分布和面分布等。提供的信息：断口形貌、表面显微结构、薄膜内部的显微结构、微区元素分析与定量元素分析等。
扫描电子显微镜SEM应用范围：
1、材料表面形貌分析，扫描电子显微镜厂家，微区形貌观察
2、各种材料形状、大小、表面、断面、粒径分布分析
3、各种薄膜样品表面形貌观察、薄膜粗糙度及膜厚分析
扫描电子显微镜样品制备比透射电镜样品制备简单，扫描电子显微镜销售，不需要包埋和切片。
电子束撞击样品的三个信号
当电子束撞击样品时，随着电子穿透到样品内部，会发生多种相互作用。在扫描电镜中有三个重要的信号，分别是背散射电子、二次电子、X射线，如图 1所示。关于不同的信号来自于哪个深度，与高能量信号相比，样品深处产生的低能量信号到达表面的概率更低。也就说，较低能量的信号更容易被样品吸收，而较高能量的信号更容易被散射。
二次电子能量相对较低（通常 <50eV），在整个相互作用区中都可产生二次电子，但只有样品表面的二次电子才可以逸出材料表面，从而被检测到，这种特性使得二次电子可以提供更好的形貌信息成像。背散射电子来自从样品中散射逸出的入射电子。这种散射过程高度依赖于电子运动路径上所遇到的原子。这意味着，可以从背散射电子信号中观察出成分称度差异。背散射电子的能量比二次电子高一个数量级，可以提供样品更深处的成像信息。
能谱中的峰高与样品中元素的含量相关。以氟化锶(SrF2)为例。根据化学计量比，预估氟峰应该是锶峰的两倍，北京扫描电子显微镜，而实际上，锶峰是氟峰的两倍。为了提供的定量结果，软件必须考虑以下几个因素进行修正，这个过程被称为算法修正。
对于大范围的扫描分析，每个像素的分析时间可能需要长达一秒钟，对大范围内所有像素进行分析非常耗时。在面扫模式下，通常会在准确性和速度之间寻求平衡。电镜的软件可以确保重叠的信号被正确地解卷积计算。
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