燕山石化聚乙烯M1840
1通过旋转蒸发将novec1720(0.1重量％含氟聚合物)浓缩至0.506重量％。2通过旋转
蒸发将novec2202(0.2重量％含氟聚合物)浓缩至0.793重量％。3k-kat670溶液的制备方式为：将k-kat670
(0.0635g)添加到玻璃小瓶中，然后添加18.182ghfe-7200。将该共混物用涡旋混合器(宾夕法尼亚州拉德诺的
vwr公司)充分混合。表9：液体涂层的结果θadvh2o＝前进水接触角，θrech2o＝后退水接触角，θstahd＝静
态十六烷接触角，θadvhd＝前进十六烷接触角，θrechd＝后退十六烷接触角，nm＝由于液滴滞留而无法测量
。在某些实施方案中，式(i)的有机连接基团w可选自饱和或不饱和的、直链、支链或环状的有机基团。连接基
团w优选地为亚烷基基团，其可包括羰基基团、氨基甲酸酯基团、脲基团、杂原子(诸如氧、氮和硫)以及它们
的组合。合适的连接基团w的示例包括亚烷基基团、亚环烷基基团、烷基取代的亚环烷基基团、羟基取代的亚
烷基基团、羟基取代的一氧杂亚烷基基团、具有一氧杂主链取代的二价烃基基团、具有一硫杂主链取代的二价
烃基基团、具有一氧-硫杂主链取代的二价烃基基团、具有二氧-硫杂主链取代的二价烃基基团、亚芳基基团、
芳基亚烷基基团、烷基亚芳基基团以及取代的烷基亚芳基基团。式(i)的两性离子化合物的合适示例描述于美
国专利5,936,703(miyazaki等人)和国际公布wo2007/146680以及wo2009/119690中，并且包括以下两性离子官
能团(-w-n+(r3)(r4)-(ch2)m-so3-)：两性离子型硅烷的合适示例描述于美国专利5,936,703(miyazaki等人)中
包括，例如：(ch3o)3si-ch2ch2ch2-n+(ch3)2-ch2ch2ch2-so3-；以及(ch3ch2o)2si(ch3)-ch2ch2ch2-n
+(ch3)2-ch2ch2ch2-so3-。可以使用在美国公布2012/0273000(jing等人)中举例说明的标准技术制备的合适两
性离子型硅烷的其他示例包括下列化合物：两性离子羧酸盐官能的硅烷化合物的示例包括：其中每个r独立地
为oh或烷氧基，并且n为1至10的整数。两性离子磷酸盐官能的硅烷化合物的示例包括：(n,n-二甲基，n-(2-磷
酸乙酯乙基)-氨丙基-三甲氧基硅烷(dmpams))。两性离子膦酸盐官能的硅烷化合物的示例包括：出于本申请的
目的，亲水性表面的定义是前进水接触角小于15°(例如小于10°)的表面。在一些实施方案中，前进水接触角
小于8°，例如小于5°。如本文所述，旨在将施加到聚合物膜以使表面另外具有亲水性的附加处理和/或涂层
包括在聚合物膜表面中。在某些实施方案中，聚合物膜具有疏水性的表面。由于该膜的化学性质，表面可
以是疏水性的。另选地或除此之外，可以通过使用表面上的处理、表面上的涂层，或者潜在地通过掺入(例如
熔融)添加剂来使表面具有疏水性。例如，可以如美国专利8,974,590；8,741158；7,396,866和美国公布
2012/0107556中公开的那样对膜进行处理，这些专利全文以引用方式并入本文。膜也可以如美国专利
5,888,594中所公开的那样制备，该专利全文以引用方式并入本文，该专利产生亲水性表面，该亲水性表面可
以进一步改性以使其具有疏水性，例如用附加的涂层，诸如疏水改性粒子的分散体。在一个具体的实施方案中
如本文所定义的使表面具有疏水性。该表面可以例如使用在美国公布2017/0067150中公开的方法来结构化，
该公布全文以引用方式并入本文。然后可以如上所述对这种结构化表面进行附加处理或涂覆。出于本申请的目
的，疏水性表面的定义是前进水接触角大于125°且滞后小于40°的表面。在一些实施方案中，前进水接触角
大于130°，例如大于135°或140°。在具体的实施方案中，前进水接触角大于145°或150°，例如大于155°
或160°。在一些实施方案中，滞后小于20°，例如小于15°或小于10°，并且在一些实施方案中小于5°。如
本文所述，旨在将施加到聚合物膜以使表面另外具有疏水性的附加处理和/或涂层包括在聚合物膜表面中。例
如，纳米结构化表面可以使用如例如美国公布2016/0141149a1中所述的等离子体处理来制造。如本文所用，术
语“纳米结构”或“纳米结构化”是指具有至少一个纳米级特征或结构的制品或表面，所述纳米级特征或结构
具有约10至500nm的尺寸。由本公开方法制备的纳米结构化表面可以具有纳米结构化各向异性表面。纳米结构
化各向异性表面通常可以包括纳米级特征，所述纳米级特征具有约2:1或更大；优选地约5:1或更大的高宽比。
在一些实施方案中，高宽比甚至可以为50:1或更大、100:1或更大，或者200:1或更大。纳米结构化各向异性表
面可以具有纳米特征，诸如纳米柱或纳米圆柱，或者包括纳米柱或纳米圆柱的连续纳米壁。通常，所述纳米特
征具有基本上垂直于基材的陡峭侧壁。在一些实施方案中，所述纳米特征的大部分可以由掩模材料覆盖。表面
上掩模材料的浓度可以为约5重量％至约90重量％或约10重量％至约75重量％。
